KLA-2835-Broadband-Plasma逻辑器件专用明场检测仪说明书.pdfVIP

产品手册

2835

宽波段等离子图案晶圆检测系统

2835BroadbandPlasma是业界首款逻辑器件专用的明场检测仪，在亚45nm的逻辑器件上能够侦测到最多类别的关键缺陷。

2835凭借一系列像素尺寸、专利的算法工具包和增强型数据速率，能够以最高的产量对复杂图案几何结构中的良率关键缺陷

进行高灵敏度检测。该系统以2800系列DUV宽带明场检测技术为基础，让工艺开发更为灵活，生产和工艺转移更为可靠，并

且为未来节点和新兴技术提供扩展的能力。

宽波段等离子光照源

灵敏度

2835以其灵活的光学模式、创新的算法及一系列像素尺寸，可以在所有工艺层上达到所需的检测灵敏度。它采用业

界最小的成像像素并提高了检测分辨率，从而能在致密图案几何形状内捕获关键缺陷。

基于设计的检测

2835采用了集成IDA机架和基于设计的分类检测，因而即使DOI（关键缺陷）和噪声缺陷的光学探测结果非常接近，

也可以根据独特的设计属性更好地将其进行区分。

可调节全光谱光学系统

结果2835采用了一个可调节的宽带光照源，其波长范围覆盖了DUV、UV和可见光。该系统具有可选并独立于像素的高数

值孔径（NA）光学孔径、定向e-Field和定制算法，因而可以实现最佳的缺陷对比度和卓越的噪声抑制，并且以最

佳灵敏度对各种工艺层、器件和设计规则的关键缺陷进行检测。

灵活性

2835的多重像素选项及独特光学模式使其具有高度的灵活性，可在良率提升的不同阶段满足生产检测的要求。2385

节省中最灵敏的检测模式非常适合工艺开发，而在批量生产中，系统的高可靠性、久经考验的匹配性能和最高加权平均

产量则能很好地支持量产偏移控制。

成效时间

创新算法和宽波段光照减少了工艺变化和前层缺陷所引起的错误缺陷计数。这种先进的噪声抑制功能与InlineDefect

Organizer™(iDO™)相结合，可加速完成可实际操作的直方图，并将资源集中在最关键的良率问题上。

通用性与连接性

2835与KLA的暗场和电子束检测仪，以及电子束检视设备采用相同的通用平台与用户界面。这对混合搭配的检测策略非常有

利，可以减少菜单创建时间，并降低培训负担。

高效菜单设置

通过采用自动检测区设置等自动菜单优化工具，可以减少菜单设置时间。2835的菜单优化也可以离线进行或在KLA的eDR-

7380SEM检视和分类系统上进行，这进一步保证了检测系统的产能，并进一步缩短了菜单的设置周期。

关键技术

2385光谱范围

随机缺陷

宽带DUV

非重复缺陷

位置重复缺陷位置重复缺陷图案重复缺陷

波长

宽波段等离子光谱：2835覆盖了DUV到可见叶滤器上的InlineDefect工艺窗口认证3.0(PWQ)通过基于设计的

光的多个光谱带。通过增加8倍光照和新光谱分组(DBG)导致非位置特定的重复缺陷。

Optimizer(iDO)采用特征向量和缺陷属性

带（Hi和Vis），以及电子场定向照射和采集PWQ3.0的新采样算法可产生更好的结果、

对缺陷进行分类。该分类引擎在检测运行

孔径，2385可针对各种衬底、工艺层和材