第八章物理气相沉积技术.pptVIP

射频溅射镀膜的原理图1-射频电源；2-匹配电路；3-射频电级（水冷）4-电磁线圈；5-工件；6-工件架（水冷）；7-靶材；8-射频电级阴极为小电极阳极为大电极第29页，共47页，星期日，2025年，2月5日原理：电极面积大小暗区电压降离子能量小电极的离子能量＞大电极的离子能量当离子能量＜溅射阀能，电极上不发生溅射一个周期内正离子和电子可以交替地轰击靶材阴极靶材小电极阳极基材大电极第30页，共47页，星期日，2025年，2月5日应用：用来沉积各种合金膜、磁性膜、超声换能器的铌酸锂和钛酸钡压电薄膜和其它功能薄膜。特点：（相对直流溅射）1）射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜；2）获得的薄膜致密、纯度高；3）与基片附着牢固；4）溅射速率大、工艺重复性好。第31页，共47页，星期日，2025年，2月5日3、磁控溅射镀膜（高速低温溅射）正交电磁场可以将电子的运动束缚在靶面附近，提高了电子的电离效率，使等离子体密度加大。溅射速度快低气压下，减少了放电气体粒子对溅射出来的原子或分子间的碰撞。避免基片温度升高将电子的运动束缚在靶面附近，使基体免受轰放电离子轰击电子到达阳极时已变成低能电子有效解决了基片温度升高和溅射速度低的问题！第32页，共47页，星期日，2025年，2月5日JC500-2/D型磁控溅射镀膜机第33页，共47页，星期日，2025年，2月5日磁控溅射镀膜制品第34页，共47页，星期日，2025年，2月5日三、离子镀膜（一）基本原理：在基片和蒸发源间加上数百至数千伏的直流电压，引起氩气的电离，形成低压气体放电的等离子区。处于负高压的基片被等离子体包围，不断遭到氩离子的高速轰击而溅射清洗并活化。然后接通交流电，使蒸发源中的膜料加热蒸发，蒸发出的粒子通过辉光放电的等离子区时部分被电离成为正离子，通过电场与扩散作用，高速打在基片表面。此外，大部分仍处于激发态的中性蒸发粒子，在惯性作用下到达基片表面，堆积成薄膜。第35页，共47页，星期日，2025年，2月5日离子镀膜原理示意图第36页，共47页，星期日，2025年，2月5日（二）常用离子镀膜方法1、空心阴极离子镀(HCD)2、多弧离子镀3、磁控溅射离子镀技术4、活性反应离子镀第37页，共47页，星期日，2025年，2月5日1、空心阴极离子镀(HCD)过程：★HCD枪作为：1）镀料的汽化源2）蒸发离子的离化源电子束蒸发镀与离子镀技术相结合的！空心热阴极放电（弧光）膜料熔化蒸发等离子电子束膜料离化阳离子在基片表面沉积定向负偏压等离子体等离子体清洗第38页，共47页，星期日，2025年，2月5日第1页，共47页，星期日，2025年，2月5日低维材料定义：二维、一维和零维材料，统称低维材料。二维材料：是指当材料的任一维度，如Z方向的尺寸小到纳米量级，则此材料就成为X，Y方向延展的二维材料。——薄膜材料(纳米薄膜）一维材料：当材料在Z方向缩小的同时，Y方向也缩小到纳米尺度。——又称量子线，纳米管零维材料：当材料在X，Y，Z方向上的尺寸都缩小到纳米量级。——纳米粉体材料PVD是制备低维材料的手段，特别是薄膜材料！第2页，共47页，星期日，2025年，2月5日WhatistheDeposition?GasLiquidSolidCondensationVaporizationDepositionFreezingMeltingSublimation第3页，共47页，星期日，2025年，2月5日薄膜材料的制备气相沉积技术溶胶凝胶技术PVDCVD蒸发镀离子镀溅射镀（装饰，机械制品，电子器件）第4页，共47页，星期日，2025年，2月5日眼镜片的镀膜1、减反射膜（增透膜）2、顶膜（防水膜、防雾膜）第5页，共47页，星期日，2025年，2月5日镀膜技术的评价薄膜性能膜厚分布附着力沉积速度第6页，共47页，星期日，2025年，2月5日一、真空蒸发镀概念：真空蒸发镀是将被镀工件放在真空室，并用一定方法加热使镀膜材料（简称膜料）蒸发或升华飞至工件表面凝聚成膜。第7页，共47页，星期日，2025年，2月5日（一）真空蒸发镀示意图第8页，共47页，星期日，2025年，2月5日１、蒸发２、汽化粒子的输运（源－基距＜平均自由程）３、凝聚、生长过程（二）主要过程第9页，共47页，星期日，2025年，2月5日1