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医疗器械真空镀膜生产技术员岗位考试试卷及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）

1.真空镀膜设备中，用于获得高真空环境的常用泵是（）

A.水泵B.旋片泵C.分子泵D.往复泵

2.镀膜过程中，膜层厚度的控制一般通过（）实现

A.时间控制B.气体流量C.电压控制D.电流控制

3.以下哪种气体常用于真空镀膜中的反应气体（）

A.氮气B.氢气C.氧气D.氩气

4.真空镀膜时，基片表面清洁处理的主要目的是（）

A.去除油污B.增加粗糙度C.提高膜基结合力D.改变颜色

5.镀膜设备的真空度单位是（）

A.帕斯卡（Pa）B.摄氏度（℃）C.安培（A）D.伏特（V）

6.对于医疗器械镀膜，对膜层的要求不包