氧化钒薄膜：特性解析、退火与钝化工艺的深度研究.docx

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2025-11-13 发布于上海
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氧化钒薄膜：特性解析、退火与钝化工艺的深度研究

一、引言

1.1研究背景与意义

氧化钒（VO_x）薄膜，作为一种极具潜力的功能材料，近年来在众多领域展现出了广阔的应用前景。这主要得益于其独特的电子结构和丰富的物理化学性质，特别是其电学、光学特性可随外界条件变化而发生显著改变。

在光电子器件领域，氧化钒薄膜的应用备受瞩目。例如，利用其在不同温度下的金属-绝缘体相变特性，可制备高性能的光开关。当温度低于相变温度时，薄膜处于绝缘态，光信号无法通过；而当温度高于相变温度时，薄膜转变为金属态，光信号能够顺利传输，从而实现光信号的快速切换，在高速光通信系统中具有重要应用价值。在太赫兹波调制器方面，