含二硫键的紫外纳米压印光刻胶及光引发剂：设计、制备与性能解析.docx

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2025-11-13 发布于上海
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含二硫键的紫外纳米压印光刻胶及光引发剂：设计、制备与性能解析.docx

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含二硫键的紫外纳米压印光刻胶及光引发剂：设计、制备与性能解析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代微纳加工技术中，纳米压印技术作为一种极具潜力的微细加工手段，正逐渐成为研究的焦点。自1995年由周郁教授首次提出以来，纳米压印技术凭借其高分辨率、高加工效率以及低成本等显著优势，在半导体、光电器件、生物传感器等众多领域展现出广阔的应用前景。与传统光刻技术不同，纳米压印技术并非依赖光线或辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或其他衬底上，利用物理作用机理构造纳米尺寸图形，其基本原理是通过在掩模版和压印胶之间施加均匀的机械力，使具有纳米结构的模板与压印胶紧密结合，处于液态或黏流态状态下的压印