选择性横向外延生长半极性面GaN材料及器件光电性质的深度剖析与前沿探索.docx

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选择性横向外延生长半极性面GaN材料及器件光电性质的深度剖析与前沿探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光电器件领域,GaN材料凭借其独特的物理性质和卓越的性能,占据着举足轻重的地位。作为第三代宽禁带半导体材料的杰出代表,GaN拥有高达3.4电子伏特的禁带宽度,这一特性使其在从可见光到紫外光区域的光电子器件,如发光二极管(LED)、激光二极管(LD),以及高温、抗辐照、大功率微电子器件等方面展现出广阔的应用前景。例如,在照明领域,GaN基LED以其高效、节能、长寿命等优势,逐步取代传统照明光源,成为照明行业的发展趋势;在通信领域,GaN基射频器件能够满足5G乃至未来

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