基于反应磁控溅射法的CrN与TiAlN涂层制备及摩擦磨损特性深度剖析.docxVIP

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2025-11-15 发布于上海
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基于反应磁控溅射法的CrN与TiAlN涂层制备及摩擦磨损特性深度剖析.docx

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基于反应磁控溅射法的CrN与TiAlN涂层制备及摩擦磨损特性深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业领域，材料表面涂层技术对于提升材料的综合性能起着关键作用，其中反应磁控溅射法作为一种重要的物理气相沉积技术，凭借其独特的优势在材料表面改性中得到了广泛应用。反应磁控溅射法是在磁控溅射的基础上，引入反应气体，使靶材原子与反应气体在基片表面发生化学反应，从而沉积出化合物薄膜。该方法具有沉积速率快、薄膜质量高、成分易于控制等优点，能够制备出多种高性能的涂层，满足不同工业领域对材料表面性能的严格要求。

CrN和TiAlN涂层作为两种典型的硬质涂层，在工业领域展现出了重要的应用价值。C