磁控溅射法制备Ag_PTFE复合膜：工艺、性能与应用的深入探究.docxVIP

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2025-11-15 发布于上海
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磁控溅射法制备Ag_PTFE复合膜：工艺、性能与应用的深入探究.docx

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磁控溅射法制备Ag/PTFE复合膜：工艺、性能与应用的深入探究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代电子技术的飞速发展，电子设备的集成度越来越高，工作频率不断提升，电磁环境日益复杂。电磁干扰（EMI）已成为影响电子设备正常运行的重要因素，其不仅可能导致设备性能下降、信号失真，甚至引发设备故障，在航空航天、医疗、军事等特殊领域，电磁干扰还可能带来严重的安全隐患。例如，在航空领域，电磁干扰可能干扰飞机的导航和通信系统，危及飞行安全；在医疗领域，可能影响医疗设备的精准度，对患者的诊断和治疗产生不良影响。因此，研发高效的电磁屏蔽材料和技术，对于保障电子设备的稳定运行和信息安全具有至关重要的意