磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的研究进展.pdfVIP

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2023,Vol.52,No.8

磁控溅射技术制备钛薄膜的研究进展

高正源1，杨栋1，孙程锦，卢再亮，孙鹏飞1

1.重庆交通大学机电与车辆工程学院，重庆400074;2.重庆市固体废物管理服务中心有限公司，重庆401121

摘要：氮化钛薄膜具有出色的涂层性能，如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等，在汽车、航空航天和生物医

学中有着广泛的应用。磁控溅射技术因其成本低、沉积速率高以及绿色环保等优势，成为氮化钛薄膜制备的主要技术之

一。综述了磁控溅射工艺参数对氮化钛薄膜择优取向、晶粒大小、膜层厚度、相组成和力学性能等的影响规律和作用机

制。另外，还讨论了掺杂元素的种类、浓度和不同的退火温度对氮化钛薄膜组织结构与性能的影响。最后，提出了磁控溅

射制备氮化钛薄膜的研究难点，并展望了未来磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的发展方向。

关键词：磁控溅射；氮化钛薄膜；溅射参数；择优取向；力学性能

D0I:10.14158/ki.1001-3814

中图分类号：TG174.4文献标识码：A文章编号：1001-3814(2023)08-0006-06

ResearchProgressofTiNFilmsPreparedbyMagnetronSputteringTechnology

GAOZhengyuan,YANGDong,SUNChengjin,LUZailiang’,SUNPengfeil

(1.SchoolofMechatronicsandVehicleEngineering,ChongqingJiaotongUniversity,Chongqing400074,China;2.Chongqing

ManagementandServiceCenterofSolidWastes,Chongqing401121,China)

Abstract:Titaniumnitridethinfilmshaveexcellentcoatingproperties,suchashighhardness,lowresistivityandgood

corrosionresistanceandwearresistance,whicharewidelyusedinautomotive,aerospaceandbiomedicalapplications.

Magnetronsputteringtechnologyhasbecomeoneofthemaintechnologiesforthepreparationoftitaniumnitridefilms

becauseofitslowcost,highdepositionrateandgreenenvironmentalprotection.Theeffectsofmagnetronsputteringprocess

parametersonselectiveorientation,grainsize,filmthickness,phasecompositionandmechanicalpropertiesoftitaniumnitride

filmswerereviewed.Inaddition,theinfluenceofthetype,concentrationanddifferentannealingtemperatureofdoped

elementsonthemicrostructureandpropertiesoftitaniumnitridefilmswasalsodiscussed.Finally,theresearchdifficulties