热氧化原理与工艺.pptx

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2025-11-21 发布于广东
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热氧化原理与工艺.pptx

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热氧化原理与工艺汇报人:集成电路制造关键技术解析LOGO

热氧化概述01热氧化原理02热氧化工艺03氧化层特性04热氧化技术发展05目录CONTENTS

热氧化概述01

定义与作用热氧化的基本定义热氧化是指在高温环境下，硅片表面与氧气或水蒸气发生化学反应，生成二氧化硅薄膜的工艺过程，是集成电路制造的关键步骤。热氧化的主要作用热氧化形成的二氧化硅层具有绝缘、钝化和掩模功能，能有效隔离器件、保护表面并作为后续工艺的阻挡层。干氧氧化与湿氧氧化干氧氧化使用纯氧气，生成致密高质量的氧化层；湿氧氧化引入水蒸气，速率更快但密度较低，适用于不同工艺需求。热氧化的温度影响氧化温度直接影响反应速率和薄膜质量，通