高氮掺杂对类金刚石薄膜的结构和摩擦磨损性能的影响.pdfVIP

《热加工工艺》2021年10月第50卷第20期

參表面改性技术參

高氮掺杂对类金刚石薄膜的结构

和摩擦磨损性能的影响

张志龙，刘竹波，王永胜，于盛旺，吴玉程，周兵

(太原理工大学新型碳材料研究院，山西晋中030600)

摘要：采用Si层作为过渡层，通过射频磁控溅射辅助直流脉冲磁控溅射技术在n型（100)单晶Si和硬质合金

(YG8)基底上制备掺氮类金刚石薄膜。采用拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪及场发射扫描电镜对薄膜的结构、组成和

形貌进行表征；采用显微硬度计测试薄膜的维氏硬度；采用用球-盘往复摩擦试验机和白光干涉仪测试薄膜的摩擦磨损

性能。结果表明：复合薄膜中碳氮原子主要以C=N键形式存在，随着掺氮量的增加，C=N键含量降低。氮掺杂DLC复合

薄膜的硬度随掺氮量的增加而降低，摩擦系数在掺氮量为12.7at%时最低，为0.10;而在掺氮量为6.6at%时比磨损率

最低，为5.1xl015mm3/(N*m)。

关键词：类金刚石薄膜；氮掺杂；氮氩流量比；磁控溅射；摩擦磨损

DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.

中图分类号：TG147文献标识码：A文章编号：1001-3814(2021)20-009卜05

EffectsofHighNitrogenDopingonStructureandFriction

andWearPropertiesofDLCFilms

ZHANGZhilong,LIUZhubo,WANGYongsheng,YUShengwang,WUYucheng,ZHOUBing

(InstituteofNewCarbonMaterials,TaiyuanUniversityofTechnology,Jinzhong030600,China)

AbstractD：LCfilmswithSitransitionlayerwerefabricatedbyusingnitrogen-dopeddiamondonn-type(100)single

crystalSiandcementedcarbide(YG8)substratesbyRFmagnetronsputteringassistedDCpulsedmagnetronsputtering.The

structure,compositionandmorphologyofthesefilmswerestudiedbyRamanspectroscopy,X-rayphotoelectronspectroscopy