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镀膜操作工综合技能考核试卷及答案

一、单选题（每题2分，共20题）

1.在镀膜过程中，若发现膜层厚度不均匀，可能的原因是（）。

A.镀膜机真空度不足

B.镀膜源功率不稳定

C.被镀工件表面污染

D.以上都是

2.镀膜前对工件进行清洁的主要目的是（）。

A.提高外观质量

B.增强膜层附着力

C.减少能耗

D.以上都是

3.真空镀膜系统中，真空度通常用（）单位表示。

A.Pa（帕斯卡）

B.mmHg（毫米汞柱）

C.mbar（毫巴）

D.以上都是

4.镀膜过程中，膜层出现针孔现象的主要原因是（）。

A.工件表面温度过高

B.镀膜气体流量过大

C.基底材料与膜层化学不兼容

D.以上都是

5.下列哪种材料不适合作为硬质镀膜靶材？（）

A.钛靶（Ti）

B.铌靶（Nb）

C.铝靶（Al）

D.钽靶（Ta）

6.镀膜后工件需要进行退火处理，其主要目的是（）。

A.提高膜层硬度

B.增强膜层附着力

C.降低膜层内应力

D.以上都是

7.在磁控溅射镀膜中，磁场的作用是（）。

A.提高溅射效率

B.减少离子轰击能量

C.增强膜层均匀性

D.以上都是

8.镀膜过程中，若发现膜层脆性过大，可能的原因是（）。

A.膜层生长速度过快

B.膜层内应力过高

C.镀膜气体纯度低

D.以上都是

9.下列哪种方法可以用于检测镀膜厚度？（）

A.薄膜测厚仪

B.光学显微镜

C.X射线衍射仪

D.以上都是

10.镀膜过程中，若发现膜层出现裂纹，可能的原因是（）。

A.工件表面温度骤变

B.膜层内应力过大

C.镀膜时间过长

D.以上都是

二、多选题（每题3分，共10题）

1.镀膜前的预处理工作包括（）。

A.化学清洗

B.超声波清洗

C.热氧化处理

D.真空烘烤

2.真空镀膜系统的常见故障包括（）。

A.真空度无法达到设定值

B.镀膜源靶材损耗不均

C.膜层厚度偏差大

D.镀膜机漏气

3.影响膜层附着力的主要因素包括（）。

A.基底材料表面状态

B.镀膜前清洁程度

C.膜层内应力

D.镀膜工艺参数

4.磁控溅射镀膜的优缺点包括（）。

A.溅射速率高

B.膜层均匀性好

C.适合大面积镀膜

D.设备成本高

5.镀膜后需要进行质量检测的项目包括（）。

A.膜层厚度

B.膜层硬度

C.膜层附着力

D.膜层外观

6.真空镀膜系统中，常用的真空获得设备包括（）。

A.真空泵

B.真空计

C.真空阀门

D.真空管道

7.镀膜过程中，膜层出现针孔或裂纹的可能原因包括（）。

A.基底材料表面氧化

B.镀膜气体流量不稳定

C.膜层生长速度过快

D.镀膜源靶材污染

8.影响磁控溅射镀膜均匀性的因素包括（）。

A.靶材与工件的距离

B.磁场强度

C.镀膜气体流量

D.镀膜腔体设计

9.镀膜前工件表面污染的主要来源包括（）。

A.空气中的尘埃

B.手指油污

C.化学试剂残留

D.设备内壁吸附物

10.镀膜后膜层出现剥落现象的可能原因包括（）。

A.膜层内应力过大

B.基底材料表面处理不当

C.镀膜工艺参数设置不合理

D.镀膜时间过长

三、判断题（每题1分，共10题）

1.镀膜前工件表面越光滑，膜层附着力越好。（×）

2.真空镀膜系统的真空度越高，镀膜质量越好。（√）

3.磁控溅射镀膜比蒸发镀膜更适合大面积镀膜。（√）

4.镀膜过程中，膜层厚度与镀膜时间成正比。（√）

5.镀膜后工件需要进行退火处理可以消除膜层内应力。（√）

6.镀膜前工件表面氧化会降低膜层附着力。（√）

7.真空镀膜系统中，真空泵是主要的真空获得设备。（√）

8.镀膜过程中，膜层出现针孔现象说明真空度不足。（×）

9.镀膜后膜层出现剥落现象一定是膜层附着力差。（×）

10.镀膜工艺参数设置不合理会导致膜层厚度不均匀。（√）

四、简答题（每题5分，共4题）

1.简述镀膜前工件表面清洁的方法及其作用。

答：镀膜前工件表面清洁的方法包括化学清洗、超声波清洗、热氧化处理等。化学清洗可以去除表面油污和有机物；超声波清洗可以利用高频振动去除微小颗粒和污染物；热氧化处理可以去除表面氧化层，提高膜层附着力。

2.简述真空镀膜系统的基本组成及其功能。

答：真空镀膜系统的基本组成包括真空泵、真空计、真空阀门、镀膜源（如蒸发源、溅射靶材）、工件台等。真空泵用于获得高真空环境；真空计用于监测真空度；真空阀门用于控制真空腔体的通断；镀膜源用于产生镀膜材料；工件台用于放置被镀工件。

3.简述影响膜层附着力的主要因素及其改进措施。

答：影响膜层附着力的主要因素包括基底材料表面状态、镀膜前