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反应磁控溅射工艺：低损耗光学薄膜制备的关键路径与机理探究.docxVIP

反应磁控溅射工艺：低损耗光学薄膜制备的关键路径与机理探究.docx

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    反应磁控溅射工艺：低损耗光学薄膜制备的关键路径与机理探究

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在现代光学领域，低损耗光学薄膜扮演着举足轻重的角色，其性能优劣直接关系到众多光学系统和光电器件的功能实现与性能表现。随着光通信、激光技术、光学成像以及太阳能利用等领域的飞速发展，对低损耗光学薄膜的需求日益增长，其重要性也愈发凸显。

    在光通信系统中，低损耗光学薄膜是实现高效光信号传输与处理的关键元件。以密集波分复用（DWDM）技术为例，该技术依赖于具有特定波长选择特性的低损耗光学薄膜滤波器，将不同波长的光信号进行复用和解复用，从而大大提高了光纤通信的容量和效率。如果光学薄膜的损耗较高，会导致光信号在传输过

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