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2026-2031上海MOCVD装备技术及产业发展分析
一、MOCVD装备技术发展概述
1.1MOCVD技术背景及原理
MOCVD技术，即金属有机化学气相沉积技术，是一种用于制造半导体器件的关键工艺。该技术自20世纪70年代诞生以来，凭借其独特的优势，迅速在半导体产业中占据重要地位。MOCVD技术通过在高温、低压环境下，利用金属有机化合物作为前驱体，在衬底表面沉积薄膜，从而实现半导体材料的生长。根据相关数据显示，MOCVD技术在全球半导体制造过程中占据了超过50%的市场份额。
MOCVD技术的原理主要基于化学反应的气相沉积过程。在MOCVD设备中，金属有机化合物
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