磁控溅射制备AlB2型WB2_CrN多层膜的结构与性能解析.docxVIP

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2025-12-08 发布于上海
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磁控溅射制备AlB2型WB2_CrN多层膜的结构与性能解析.docx

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磁控溅射制备AlB2型WB2/CrN多层膜的结构与性能解析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与工程领域，薄膜材料凭借其独特的物理、化学和力学性能，在众多领域中发挥着至关重要的作用。从电子半导体功能器件到光学镀膜，从航空航天的高性能部件到日常生活中的电子产品，薄膜材料无处不在。例如在电子领域，薄膜材料被用于制造晶体管、二极管等基本元件，是集成电路实现微型化和高性能化的关键；在光学领域，薄膜材料用于制备光学镜片、滤光器、反射膜等，广泛应用于光学仪器、摄影器材、眼镜等产品。随着科技的飞速发展，各领域对薄膜材料的性能要求也日益严苛，不仅需要其具备高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性，还