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2025 年大学微电子学（集成电路）期中测试卷.docVIP

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  • 2025-12-10 发布于北京
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2025 年大学微电子学（集成电路）期中测试卷.doc

    2025年大学微电子学（集成电路）期中测试卷

    （考试时间：90分钟满分100分）班级______姓名______

    一、单项选择题（总共10题，每题3分，每题只有一个正确答案，请将正确答案填写在括号内）

    1.以下哪种半导体材料是目前集成电路制造中最常用的？（）

    A.硅

    B.锗

    C.砷化镓

    D.碳化硅

    2.集成电路制造中，光刻技术的主要作用是（）。

    A.定义器件的几何形状

    B.掺杂半导体

    C.形成金属互连

    D.去除杂质

    3.MOSFET的阈值电压主要取决于（）。

    A.沟道长度

    B.栅氧化层厚度

    C.源漏掺杂浓度

    D.衬底掺杂浓度

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