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摘要
随着光学系统集成化与微型化需求的快速增长，图案化滤光片因其在单个基
片上集成多光谱功能区域的独特优势，成为生物医学检测、光学传感、航空航天
及消费电子等领域的关键元件。
本论文针对图案化微区滤光片的开发需求，围绕半导体光学晶圆的关键技术，
结合光刻与真空镀膜工艺，开展两款图案化滤光片（A产品与Z产品）的设计与
制备研究。研究聚焦于光刻工艺参数优化、膜系设计及量产工艺优化，旨在解决
滤光片微型化、集成化中的关键问题。
本研究通过光刻工艺实现微区图案化结构，针对正胶与负
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