多弧离子镀TiN、TiAlN膜层性能的研究 - 副本.docxVIP

《热加工工艺》2020年2月第49卷第4期

多弧离子镀TiN、TiAlN膜层性能的研究刘海波1,王明明1,张镜斌2,刘洲超2,魏刚2

(1.海装驻咸阳地区军事代表室,陕西兴平713102;2.中国船舶重工集团公司第十二研究所,陕西兴平713102)

摘要：采用多弧离子镀技术，在20CrMnSi钢基体上沉积了TiN、TiAlN膜层。使用球坑仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验机和盐雾箱对膜层的厚度、显微硬度、结合力、磨损性能和耐盐雾腐蚀性能进行检测。结果表明：随膜层厚度的增大，两种膜层的硬度和耐盐雾腐蚀性升高，结合力降低，耐磨性先升高后降低，且在膜层厚度为9μm时耐磨性最高。二者相比，TiAlN膜层优于TiN膜层。

关键词：多弧离子镀；TiN/TiAlN薄膜；性能DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.中图分类号：TG174 文献标识码：A 文章编号：1001-3814(2020)4-0085-03

StudyonPropertiesofTiNandTiAlNFilmDepositedbyMulti-arcIonPlatingMethod

LIUHaibo1,WANGMingming1,ZHANGJingbin2,LIUZhouchao2,WEIGang2

(1.MliltaryRepresentativeOfficeinXianyangDistrict,Xingping713102,China;2.CSICNo.12ResearchInstitute,Xingping713102,China)

Abstract：TiNandTiAlNfilmsweredepositedon20CrMnSisteelmatrixbymulti-arcionplatingtechnology.Thethickness,microhardness,adhesionstrength,wearpropertiesandsaltspraycorrosionresistanceofthefilmswerecheckedupbyballcratering,microhardnesstester,scratchtester,frictionweartesterandsaltsprayatmospheretester.Theresultsshowthatwiththeincreaseofthethicknessofthefilms,themicrohardnessandsaltspraycorrosionresistanceofthetwofilmsimprove,theadhesionstrengthsdecrease;thewearpropertiesfirstlyincreaseandthendecrease.Whenthethicknessofthefilmsincreaseto9μm,thewearpropertiesofthefilmsarebest.

Keywords：multi-arcionplating;TiN/TiAlNfilm;property

多弧离子镀又称电弧离子镀，是离子镀技术中应用最广泛的一种先进技术[1]。TiN薄膜是目前研究最早和应用最广泛的Ⅳ族金属氮化物薄膜，拥有较高的硬度、耐磨性和良好的导电性[2-5]。随着加工要求的不断提高，研究综合性能更优良的薄膜显得越

来越重要。TiAlN薄膜就是在TiN薄膜的基础上开

选用20CrMnSi作为基材，基片尺寸为20mm×20mm×5mm，预先进行渗碳处理。首先将样品在600#、900#、1500#砂纸上依次进行90°交替打磨，然后抛光，使基体表面呈现镜面光洁。沉积薄膜前，采用丙酮对样品进行15min超声清洗。采用AS600

DMTXB型多弧离子镀膜机制备薄膜，选用纯度为

发的一种硬质薄膜[6-7]，因其高硬度、良好的化学稳定 99.99%的Ti靶和Al靶。样品悬挂在真空室的转

性以及优异的耐磨、耐蚀、抗氧化性能成为科研工作者的研究热点，是切削业、装饰及医疗领域常用的防护性薄膜[8]。大多数研究人员都是针对不同工艺参数对膜层性能的影响进行研究，本文独辟蹊径