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2025年集成电路复试面试题库及答案.doc

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    2025年集成电路复试面试题库及答案

    一、单项选择题（总共10题，每题2分）

    1.集成电路制造过程中，哪一步是形成电路图案的关键步骤？

    A.晶圆清洗

    B.光刻

    C.氧化

    D.扩散

    答案：B

    2.在CMOS电路中，PMOS和NMOS晶体管的互补特性主要利用了哪种效应？

    A.霍尔效应

    B.库仑阻塞效应

    C.霍夫效应

    D.耗尽效应

    答案：D

    3.集成电路的功耗主要受以下哪个因素影响最大？

    A.电路尺寸

    B.工作频率

    C.电压水平

    D.温度

    答案：C

    4.在集成电路设计中，时钟信号的主要作用是？

    A.提供电源

    B.控制电路工作节奏

    C.传输数据

    D.保护电路

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