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2025年半导体先进制程技术突破与应用分析报告范文参考
一、行业背景与技术演进脉络
1.1全球半导体产业发展现状与趋势
1.2先进制程技术突破的核心驱动力
1.32025年先进制程技术突破的关键方向
二、先进制程技术核心突破路径分析
2.1晶体管结构从FinFET到GAA的范式跃迁
2.2光刻技术从EUV到High-NAEUV的极限跨越
2.3材料与工艺协同创新:从硅基到异质集成的演进
2.4产业链协同攻关:从单点突破到生态共建
三、先进制程技术核心应用场景与市场渗透
3.1人工智能与高性能计算领域的算力革命
3.2移动终端与消费电子的性能与能效平衡
3.3汽车电子与工业
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