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硅前驱体市场分析:预计全球年复合增长率(2025-2031)为8.9%
一、行业定义与核心价值
硅前驱体(SiliconPrecursors)是半导体制造中用于沉积含硅薄膜的关键气相化学原料,通过化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD)技术,在高温或等离子体环境下分解或反应,形成单晶硅、二氧化硅(SiO?)、氮化硅(SiN?)等核心功能薄膜。其纯度需达到金属杂质低于ppt级(万亿分之一),直接决定芯片性能与良率,被誉为半导体制造的“化学基石”。
核心应用场景:
逻辑芯片:构建晶体管栅极、介质隔离层(如High-k介质);
存储芯片:3DN
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