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水处理方案设计：XX市电子产业园工业废水处理站设计方案
方案编号：SCJS-2026008
设计单位：XX市环保工程设计研究院
项目地点：XX市高新技术产业开发区电子产业园内
设计周期：2026年2月-2026年4月
项目负责人：李XX135XXXX7890；技术负责人：王XX136XXXX4567
处理规模：1000m3/d
目录
一、项目概况与设计依据
二、废水水质分析与处理目标
三、处理工艺方案设计
四、核心处理单元详细设计
五、辅助系统设计
六、设备选型与清单
七、工程投资与运行成本估算
八、施工组织与进度计划
九、运行管理与人员配置
十、安全与环保保障措施
十一、效益分析
十二、附则
一、项目概况与设计依据
1.1项目背景
XX市电子产业园是当地重点发展的专业园区，规划入驻电子元器件、半导体封装、精密电子设备制造等企业30余家，预计投产后日均产生工业废水约800m3，加上园区生活污水200m3，合计日均废水排放量达1000m3。目前园区尚未建设集中式废水处理设施，入驻企业临时处理设施处理能力有限，废水排放难以稳定达标，既制约企业发展，也存在环境污染风险。
为响应国家“水十条”及地方环保政策要求，解决园区废水处理难题，保障周边水体环境安全，推动园区可持续发展，XX市高新区管委会决定投资建设园区工业废水处理站。本方案针对园区废水水质复杂、污染物种类多的特点，设计一套高效、稳定、经济的废水处理系统，实现废水达标排放与水资源循环利用。
1.2设计依据
（1）相关法律法规：《中华人民共和国环境保护法》（2015年修订）、《中华人民共和国水污染防治法》（2017年修订）、《污水综合排放标准》（GB8978-1996）、《城镇污水处理厂污染物排放标准》（GB18918-2002）、《工业废水处理工程技术规范》（HJ2015-2013）；
（2）项目相关文件：XX市电子产业园总体规划、园区入驻企业废水排放承诺书、《XX市电子产业园废水处理站项目可行性研究报告》；
（3）基础资料：园区入驻企业工艺清单及废水产排情况、场地岩土工程勘察报告、场地实测地形图、当地气象资料（年均气温17.2℃，年降水量1150mm）、周边市政污水管网及受纳水体水质要求；
（4）实测数据：对园区已入驻5家企业的废水进行连续7天采样监测，获取的水质水量实测数据。
二、废水水质分析与处理目标
2.1废水来源与分类
园区废水主要分为工业废水和生活污水两类，其中工业废水占比80%，生活污水占比20%。工业废水根据污染物特性进一步细分：
（1）含重金属废水：来自电子元器件电镀车间，主要含Cu2?、Ni2?、Zn2?等重金属离子，水量约150m3/d；
（2）含氟废水：来自半导体清洗工序，氟离子浓度较高，水量约100m3/d；
（3）有机废水：来自电路板清洗、光刻等工序，含COD、BOD?、氨氮及少量有机溶剂，水量约550m3/d；
（4）生活污水：来自园区办公及员工宿舍，含COD、BOD?、氨氮、总磷等污染物，水量约200m3/d。
2.2进水水质指标（综合水质）
根据实测数据及类比同类园区水质，确定处理站进水主要水质指标如下：
COD：800-1200mg/L；BOD?：300-500mg/L；pH：3.5-10.5；SS：200-400mg/L；氨氮：50-80mg/L；总磷：5-10mg/L；Cu2?：1-5mg/L；Ni2?：0.5-2mg/L；氟离子：20-50mg/L。
2.3处理目标
（1）排放指标：处理后废水主要指标达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》（GB18918-2002）一级A标准，其中重金属及氟离子指标满足《污水综合排放标准》（GB8978-1996）表1一类污染物排放要求，具体指标如下：
COD≤50mg/L；BOD?≤10mg/L；pH：6-9；SS≤10mg/L；氨氮≤5mg/L（8mg/L，冬季）；总磷≤0.5mg/L；Cu2?≤0.5mg/L；Ni2?≤0.1mg/L；氟离子≤10mg/L。
（2）资源回收目标：处理后达标废水部分用于园区绿化灌溉及道路冲洗，回用量≥200m3/d；含重金属污泥经脱水干化后交由有资质单位处置，实现危险废物规范化管理。
（3）运行目标：处理系统运行稳定，进水水质在±20%范围内波动时，出水仍能达标；设备完好率≥95%；年运行时间≥8000小时。
三、处理工艺方案设计
3.1工艺选择原则
（1）针对性原则：针对园区废水水质复杂、污染物种类多的特点，采用“分类预处理+综合处理+深度处理”的组合工艺，确保各类污染物有效去除；
（2）稳定性原则：选用成熟可靠、抗冲击负荷能力强的处理工艺及设备，保障系统长期稳定运行；
（3）经济性原则：在满足处理目标的前提下，优化工艺设计，降低工程投资与
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