《GB_T 28274-2012硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则》专题研究报告.pptx

;目录;;硅基MEMS产业的标准化刚需：混乱设计为何会阻碍产业规模化;;（三）产业政策与市场需求双驱动：标准如何助力硅基MEMS国产化突破;;版图设计的前置基础：标准对硅基衬底特性与设计匹配性的要求;（二）核心功能区设计规范：从器件结构到互联线路的全维度规则;（三）封装兼容性设计：GB/T28274-2012如何衔接版图与封装工艺;;;;（三）套刻精度的核心意义：多图层对准误差为何要严格限定在标准范围内;;光刻工艺适配：标准对版图图形与光刻分辨率的匹配性要求;;;;三维结构的版图表达：标准如何通过分层设计呈现立体器件形态;;（三）三维腔室与通道设计：版