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化学工艺流程专题(2016)
化学工艺流程题的解题要领
1.常见的化工术语
关键词
释义
研磨、雾化
将块状或颗粒状的物质磨成粉末或将液体雾化,增大反应物接触面积,以加快反应速率或使反
应更充分
灼烧(煅烧)
使固体在高温下分解或改变结构、使杂质高温氧化、分解等。如煅烧石灰石、高岭土、硫铁矿
浸取
向固体中加入适当溶剂或溶液,使其中可溶性的物质溶解,包括水浸取、酸溶、碱溶、醇溶等
浸出率
固体溶解后,离子在溶液中的含量的多少
酸浸
在酸性溶液中使可溶性金属离子进入溶液,不溶物通过过滤除去的过程
水浸
和水接触反应或溶解
过滤
固体和液体的分离
滴定
定量测定,可用于某种未知浓度物质的物质的量浓度的测定
蒸发结晶
蒸发溶剂,使溶液由不饱和变为饱和,继续蒸发,过剩的溶质就会呈晶体析出
蒸发浓缩
蒸发除去部分溶剂,提高溶液的浓度
水洗
用水洗去可溶性杂质,类似的还有酸洗、醇洗等
酸作用
溶解、去氧化物(膜)、抑制某些金属离子的水解、除去杂质离子等
碱作用
去油污,去铝片氧化膜,溶解铝、二氧化硅,调节、促进水解(沉淀)
1
2.常见的操作和答题
常见的操作
答题要考虑的角度
加过量试剂
使反应完全进行(或增大转化率、产率)等
加氧化剂
氧化某物质,生成目标产物或除去某些离子
判断能否加其他
要考虑是否引入杂质(或影响产物的纯度)等
物质
分离、提纯
过滤、蒸发、萃取、分液、蒸馏等常规操作;
从溶液中得到晶体的方法:蒸发浓缩—冷却结晶—过滤—(洗涤、干燥)
提高原子利用率
绿色化学(物质的循环利用、废物处理、原子利用率、能量的充分利用)
在空气中或在其
要考虑O2、H2O、2或其他气体是否参和反应或能否达到隔绝空气,防氧化、水解、潮
他气体中进行的
解等目的
反应或操作
判断沉淀是否洗
取最后洗涤液少量,检验其中是否还有某种离子存在等
涤干净
①调节溶液的酸碱性,抑制水解(或使其中某些金属离子形成氢氧化物沉淀)
控制溶液的
②“酸作用”还可除去氧化物(膜)
③“碱作用”还可除去油污,除去铝片氧化膜,溶解铝、二氧化硅等
④特定的氧化还原反应需要的酸性条件(或碱性条件)
①防止副反应的发生
②使化学平衡移动;控制化学反应的方向
控制温度
③控制固体的溶解和结晶(如趁热过滤能防止某物质降温时析出)
④控制反应速率;使催化剂达到最大活性
(常用水浴、
⑤升温:促进溶液中的气体逸出,使某物质达到沸点挥发
冰浴或油浴)
⑥加热煮沸:促进水解,聚沉后利于过滤分离
⑦趁热过滤:减少因降温而析出的溶质的量
⑧降温:防止物质高温分解或挥发;降温(或减压)可以减少能源成本,降低对设备的要求
①水洗:通常是为了除去晶体表面水溶性的杂质
②“冰水洗涤”:能洗去晶体表面的杂质离子,且防止晶体在洗涤过程中的溶解损耗
洗涤晶体
③用特定有机试剂清洗晶体:洗去晶体表面的杂质,降低晶体的溶解度、有利于析出,减
少损耗等
④洗涤沉淀方法:往漏斗中加入蒸馏水至浸没沉淀,待水自然流下,重复以上操作2-3次
表面处理
用水洗除去表面可溶性杂质,金属晶体可用机械法(打磨)或化学法除去表面氧化物、抛光
等
2
如何确定有关工艺流程中的重要物质
【考题呈现】
1.(2015·天津高考)废旧印刷电路板是一种电子废弃物,其中铜的含量达到矿石中的几十倍。湿法技术是将粉
碎的印刷电路板经溶解、萃取、电解等操作得到纯铜等产品。某化学小组模拟该方法回收铜和制取胆矾,流程
简图如下:
流程中有三次实现了试剂的循环使用,已用虚线标出两处,第三处的试剂是 。循环使用的4在反应
Ⅰ中的主要作用是
。
2.(2015·山东高考)毒重石的主要成分为3(含2+、2+、3+等杂质),实验室利用毒重石制备
2·2H2O的流程如下:
2+
2+
3+
开始沉淀时的
11.9
9.1
1.9
完全沉淀时的
13.9
11.1
3.2
已知:(2O4)=1.67×10-7,(2O4)=2.3×10-9。
加入3·H2O调节8可除去
(填离子符号),滤渣Ⅱ中含
(填化学式)。加入H2C2O4
时应避免过量,原因是
。
【归纳总结】
1.(1)解题策略
解题步骤
解题策略
首尾呼应、
1.
对照原料和产品,确定核心反应和核心辅料
找出主线
2.
依核心反应,明确流程主线、支线和除杂任务
3.
以核心辅助原料为准,把流程划分为原料预处理、核心反应和产品分离提纯三个阶段
分段剖析、
4.
依箭头指向,分析每一环节中物质流入和流出的意义、控制反应条件的作用,融通对流程的
整体分析
明析细节
某些暂时琢磨不透的环节,可“跳过去”而“难得糊涂”,如有必要,可“顺藤摸瓜”或带着问题
5.
回头来进行有针对性的分析
由易到难、
6.
先易后难:先回答和工艺流程非密切相关的问题,确保易拿的分数先拿,增强答题信心
变换角度:从基本理
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