磁控溅射法制备高性能Al - Mg - B薄膜的工艺与性能研究.docxVIP

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2025-12-25 发布于上海
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磁控溅射法制备高性能Al - Mg - B薄膜的工艺与性能研究.docx

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磁控溅射法制备高性能Al-Mg-B薄膜的工艺与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与工程领域，薄膜材料由于其独特的物理、化学和机械性能，在现代工业和高新技术领域中发挥着至关重要的作用。从微电子器件中的集成电路、光电子器件中的光学涂层，到航空航天领域的热障涂层和防护涂层，薄膜材料的应用无处不在。薄膜材料的性能不仅取决于其化学成分，还与制备工艺密切相关。因此，开发高效、精确的薄膜制备技术，对于实现薄膜材料的性能优化和功能拓展具有重要意义。

磁控溅射技术作为一种重要的薄膜制备方法，自20世纪70年代发展以来，凭借其独特的优势在材料制备领域占据了重要地位。该技术利用磁