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氟化镁基底3-5μm红外增透保护膜的制备与性能优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学技术中，红外光学领域扮演着至关重要的角色，广泛应用于军事国防、航天航空、遥感探测、医学诊断以及工业检测等多个关键领域。在红外光学系统里，光学元件的性能优劣对系统整体性能起着决定性作用。而氟化镁基底凭借其众多卓越特性，成为了红外光学领域中不可或缺的关键材料。

氟化镁晶体作为一种典型的红外光学材料，具备极为出色的光学性能。其透光范围异常宽广，能够覆盖从120nm的深紫外波段到7000nm的远红外波段，这一特性使得它在不同波长范围的光学应用中都能发挥重要作用。并且，氟化镁的折射率较低，大