CN104357812B-一种低磷化学镀镍浓缩液及施镀工艺-授权.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN104357812B

(45)授权公告日

2017.02.15

(21)申请号201410551424.7(56)对比文件

(22)申请日2014.10.17CN101880871A,2010.11.10,

CN101851752A,2010.10.06,

(65)同一申请的已公布的文献号

CN101314848A,2008.12.03,

申请公布号CN104357812A

EP2194156A1,2010.06.09,

(43)申请公布日2015.02.18张永忠，吴宜勇，姚枚.低磷化学镀镍工艺.

《电镀与环保》.1995,(第05期),

(73)专利权人金川集团股份有限公司

林继月等.一种实用高磷化学镀镍液的研

地址737103甘肃省金昌市金川路98号

究.《2013年海峡两岸（上海）电子电镀及表面处

(72)发明人谢刚李宝平王霞邢晓钟

理学术交流会论文集》.2013,293-296.

张霞张国勇孙正德黄淑芳

审查员刘琼

(74)专利代理机构甘肃省知识产权事务中心

62100

代理人李琪

(51)Int.Cl.

C23C18/36(2006.01)

权利要求书2页说明书7页

(54)发明名称

一种低磷化学镀镍浓缩液及施镀工艺

(57)摘要

一种低磷化学镀镍浓缩液及施镀工艺，该浓

缩液分为A液、B液和C液三部分：常温下将主盐、

乳酸、硼砂、稳定剂、光亮剂、加速剂和去离子水

混合成A液；常温下将硼砂、氢氧化钠、乙酸、氨基

醋酸、乳酸、苹果酸、次磷酸钠、稳定剂、加速剂、

氨水和去离子水混合成B液；常温下将硼砂、氢氧

化钠、乙酸、苹果酸、次磷酸钠、平整机剂、光亮

剂、加速剂、稳定剂、氨水和去离子水混合成C液；

A液和B液用于开槽，A液和C液用于补加。按体积

百分比，混合A液、B液和稀释水；形成pH值为4.7

～5.2的化学镀镍液；施镀，镀镍液中镍含量低于

5.0g/L，补加A液和C液。用该镀镍浓缩液镀镍时，

B镀件沉积速率快，镀层的硬度及耐磨性较高。

2

1

8

7

5

3

4

0

1

N

C

CN104357812B权利要求书1/2页

1.一种低磷化学镀镍浓缩液，其特征在于，该低磷化学镀镍浓缩液分为A液、B液和C液

三部分：

A液由主盐、乳酸、硼砂、稳定剂、光亮剂、加速剂和去离子水组成；常温下，将各组份混

合，搅拌至固态组份完全溶解，即得A液；每升A