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2026年最新集成电路专业单招考试真题及答案.doc

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    2026年最新集成电路专业单招考试真题及答案

    一、单项选择题（总共10题，每题2分）

    1.集成电路制造过程中，哪一步是形成电路图案的关键步骤？

    A.晶圆清洗

    B.光刻

    C.氧化

    D.扩散

    答案：B

    2.在CMOS电路中，PMOS和NMOS晶体管的互补特性主要利用了哪种效应？

    A.霍尔效应

    B.耦合电容效应

    C.饱和效应

    D.跨导效应

    答案：D

    3.集成电路的功耗主要受以下哪个因素影响最大？

    A.工作频率

    B.电路尺寸

    C.电压等级

    D.温度

    答案：C

    4.在集成电路设计中，逻辑门级的优化主要目的是什么？

    A.提高电路速度

    B.降低功耗

    C.增加电路密度

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