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集成电路制造工艺 课件 3.4 先进光刻工艺介绍.pptx

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    集成电路制造工艺

    --先进的光刻工艺;;;判断光刻工艺是否具有生命力的三个标准：分辨率、套准精度、产出率，其中分辨率是关键;远紫外线光刻是建立在光学光刻技术基础上，使用激光产生等离子源，产生约13nm的紫外波长，这种光源工作在真空环境下以产生极外射线，由光学聚焦成光束经投影掩膜版反射扫描硅片。目前光刻图形的精度可达到30nm.;紫外光谱图;1.电子束曝光的原理与种类;2.电子束

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