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2025年半导体光刻技术发展趋势报告

一、半导体光刻技术发展现状与驱动因素

1.1全球半导体产业对光刻技术的核心依赖

1.2光刻技术演进的关键节点与当前瓶颈

1.3政策与资本对光刻技术发展的双重推动

1.4新兴应用领域对光刻技术的新需求

1.5光刻技术产业链协同与区域竞争格局

二、技术演进路径与核心突破点

2.1光源技术的革命性迭代

2.1.1EUV光源作为当前光刻技术的核心

2.1.2在EUV技术持续迭代的同时

2.2光刻胶与材料体系的创新

2.2.1光刻胶作为光刻工艺的核心材料

2.2.2掩模与衬底材料的升级同样至关重要

2.3多重曝光与计算光刻的协同优化

2.3.