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国家标准《ArF光刻胶的释气测量方法》
（征求意见稿）编制说明
一、工作简况
（一）任务来源
国家标准计划《ArF光刻胶的释气测量方法》，由TC203（全国半导体设备和材
料标准化技术委员会）归口并组织执行。计划编T-469，项目周期16个月。
（二）制定背景
ArF光刻是当前全球产业应用量最大的先进光刻技术，是我国产业链严重受限制环
节，国产化率低于5%，从光刻机到光刻工艺和光刻胶，只能依靠自主创新。ASML开
发光刻机的同时，IM
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