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北京工业大学《光电器件仿真与工艺综合设计年第二学期期末试卷含答案
一、填空题(每题5分,共50分)
1.光电器件中,LED的核心材料是__________。
答案:半导体材料
2.在光电器件仿真中,常用的仿真软件有__________、__________和__________。
答案:Lumerical、CST、COMSOL
3.光电器件中的PIN结构,其I层的作用是__________。
答案:提高载流子注入效率
4.在LED制造过程中,采用__________技术可以降低芯片的发热量。
答案:覆晶技术
5.光电器件中的光吸收系数与__________有关。
答案:材料折射率、材料厚度
6.光电器件中的光发射过程主要包括__________和__________。
答案:自发辐射、受激辐射
7.在光电器件仿真中,采用__________方法可以分析光场分布。
答案:有限元法
8.光电器件中的量子效率是指__________。
答案:辐射复合产生的光子数与注入的载流子数之比
9.在光电器件工艺中,__________是制备高质量外延层的关键步骤。
答案:MOCVD技术
10.光电器件中的光波导模式主要有__________模式和__________模式。
答案:TE模式、TM模式
二、选择题(每题5分,共30分)
1.以下哪种材料不是LED常用的衬底材料?()
A.Si
B.GaAs
C.SiC
D.Sapphire
答案:A
2.在LED制造过程中,以下哪个步骤属于后工艺处理?()
A.外延生长
B.刻蚀
C.灌封
D.剪切
答案:C
3.以下哪种光电器件主要用于光通信领域?()
A.LED
B.LD
C.PD
D.MOD
答案:B
4.在光电器件仿真中,以下哪种方法可以分析光电器件的频率特性?()
A.有限差分法
B.有限元法
C.有限积分法
D.模态匹配法
答案:D
5.以下哪种工艺可以用于制备光电器件中的微纳结构?()
A.电子束蒸发
B.光刻
C.电化学沉积
D.激光加工
答案:D
三、判断题(每题5分,共20分)
1.在LED制造过程中,采用MOCVD技术可以制备出高质量的量子阱结构。()
答案:正确
2.光电器件中的光波导模式只存在TE模式和TM模式。()
答案:错误
3.光电器件中的量子效率越高,光输出功率越大。()
答案:正确
4.光电器件中的光吸收系数与材料的禁带宽度成正比。()
答案:错误
四、简答题(每题10分,共30分)
1.简述光电器件仿真中的有限元法。
答案:有限元法是一种基于变分原理的数值计算方法,它将连续体离散为有限数量的单元,通过求解每个单元的方程组来得到整个系统的解。在光电器件仿真中,有限元法可以用来分析光场分布、电磁场分布等。
2.简述光电器件中的光波导原理。
答案:光波导是一种利用全反射原理来引导光传播的介质结构。当光从高折射率介质进入低折射率介质时,入射角大于临界角时,光会发生全反射。通过设计光波导的结构,可以实现光的传输、耦合、调制等功能。
3.简述光电器件中的量子效率。
答案:光电器件中的量子效率是指辐射复合产生的光子数与注入的载流子数之比。量子效率越高,表明光电器件的发光效率越高,光输出功率越大。
五、论述题(每题20分,共40分)
1.论述光电器件仿真在光电器件设计中的应用。
答案:光电器件仿真在光电器件设计中起到了关键作用。通过仿真,可以预测光电器件的性能,优化器件结构,指导工艺流程。具体应用包括:分析光场分布、电磁场分布、载流子分布等,优化器件参数,提高器件性能。
2.论述光电器件工艺在光电器件制造中的重要性。
答案:光电器件工艺是光电器件制造过程中的关键环节,它直接影响到光电器件的性能、可靠性和成本。良好的工艺可以制备出高质量的外延层、结构层,实现精确的图形转移,提高器件的发光效率、寿命和稳定性。同时,合理的工艺流程可以降低生产成本,提高生产效率。
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