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基于原子层沉积的金属 - 氧化物多功能催化剂：设计、制备与性能调控.docx

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    基于原子层沉积的金属-氧化物多功能催化剂：设计、制备与性能调控

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在材料制备的前沿领域，原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）技术正发挥着举足轻重的作用。作为一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术，ALD能够实现原子级别的精准控制，如同“3D打印”一般，为材料的设计与制备带来了革命性的变革。

    ALD技术的核心优势在于其能够在原子层级上精细调控薄膜的厚度，通过自限式逐层沉积，精确控制催化活性位点的数量与分布，赋予催化剂优异的表面均一性、缺陷可控性和活性位点可调性，从而显著增强催化效率和稳定性。同时，ALD

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