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InAlN/AlN/GaN异质结场效应晶体管可靠性的多维度解析与提升策略
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代电子技术的飞速发展,对电子器件的性能要求日益提高。在众多半导体器件中,氮化镓(GaN)基器件凭借其大的禁带宽度、高击穿电场、高电子饱和漂移速率等优良特性,成为了研究热点。InAlN/AlN/GaN异质结场效应晶体管作为GaN基器件中的重要一员,在高频、高功率应用领域展现出巨大的潜力,如5G通讯、雷达、智能电网、新能源汽车以及数据中心等。
在5G通讯中,需要器件具备高频特性以实现高速数据传输,InAlN/AlN/GaN异质结场效应晶体管能够满足这一需求,有助于提升信
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