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2025年半导体光刻胶涂覆均匀性评估标准报告模板
一、2025年半导体光刻胶涂覆均匀性评估标准报告
1.1标准背景
1.2标准制定目的
1.3标准制定依据
1.4标准主要内容
二、光刻胶涂覆均匀性测试方法与设备
2.1光刻胶涂覆均匀性测试方法概述
2.1.1光学显微镜观察法
2.1.2自动光学检测（AOI）系统检测法
2.1.3扫描电子显微镜（SEM）观察法
2.2光刻胶涂覆均匀性测试设备
2.2.1光学显微镜
2.2.2自动光学检测（AOI）系统
2.2.3扫描电子显微镜（SEM）
2.3光刻胶涂覆均匀性测试结果分析
3.1评价标准制定原则
3.1.1科学性
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