氮化硅薄膜材料的PECVD制备及其光学性质研究.docx

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氮化硅薄膜材料的PECVD制备及其光学性质研究

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氮化硅薄膜材料的PECVD制备及其光学性质研究

摘要:氮化硅薄膜材料作为一种具有优异机械性能、热稳定性和抗腐蚀性的新型功能材料,在航空航天、微电子等领域具有广泛的应用前景。本文采用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)技术制备了氮化硅薄膜,并对其光学性质进行了深入研究。首先,介绍了PECVD技术的原理和氮化硅薄膜的制备工艺;其次,分析了氮化硅薄膜的微观结构、厚度和均匀性;然后,

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