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先进沉积技术仿真
1.引言
在微电子制造工艺中,沉积技术是至关重要的一步。沉积工艺涉及到在半导体衬底上形成各种薄膜材料,这些薄膜材料可以是绝缘层、导电层、半导体层等。不同的沉积技术具有不同的特点和应用场景,如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、原子层沉积(ALD)等。随着微电子器件尺寸的不断减小,对沉积工艺的精确控制和仿真需求也越来越高。本节将详细介绍先进沉积技术的仿真方法,包括不同的沉积技术、仿真模型和软件工具。
2.化学气相沉积(CVD)仿真
2.1CVD的基本原理
化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,
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