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沉积工艺仿真案例研究
引言
沉积工艺是微电子制造中的一项关键技术,用于在基片上形成各种薄膜材料。通过沉积工艺仿真,可以在实际制造前预测薄膜的生长过程、厚度分布、成分变化等关键参数,从而优化工艺参数、提高生产效率和产品质量。本节将通过具体的案例研究,详细介绍沉积工艺仿真的原理和方法,并结合实际应用提供操作示例。
案例研究1:化学气相沉积(CVD)仿真
1.1CVD工艺简介
化学气相沉积(CVD)是一种在气态前驱体分解并沉积在基片表面形成薄膜的工艺。CVD工艺广泛应用于半导体制造中,可以形成多种材料,如多晶硅、氧化硅、氮化硅等。CVD工艺的关键参数包括反应
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