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22.2025年有机合成工艺考试:有机光电材料的合成工艺与性能调控
一、单项选择题(每题1分,共30题)
1.有机光电材料中最常用的光电跃迁类型是?
A.电子跃迁
B.声子跃迁
C.振动跃迁
D.离子跃迁
2.下列哪种材料属于典型的有机光电材料?
A.金属氧化物
B.有机半导体
C.无机绝缘体
D.金属导体
3.有机光电材料的合成工艺中,常用的溶剂是?
A.水
B.有机溶剂(如甲苯、DMF)
C.油类
D.气体
4.有机光电材料的性能调控中,最重要的参数是?
A.分子量
B.晶体结构
C.形状
D.分子极性
5.有机光电材料的合成工艺中,常用的催化剂是?
A.酸催化剂
B.碱催化剂
C.光催化剂
D.生物催化剂
6.有机光电材料的性能调控中,最重要的方法之一是?
A.温度控制
B.压力控制
C.溶剂选择
D.添加剂使用
7.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应类型是?
A.加成反应
B.缩聚反应
C.烷基化反应
D.酯化反应
8.有机光电材料的性能调控中,常用的测试方法是?
A.光谱分析
B.旋光分析
C.质谱分析
D.热重分析
9.有机光电材料的合成工艺中,常用的设备是?
A.高温炉
B.超声波清洗机
C.真空干燥箱
D.磁力搅拌器
10.有机光电材料的性能调控中,常用的材料是?
A.聚合物
B.小分子
C.金属
D.陶瓷
11.有机光电材料的合成工艺中,常用的纯化方法是?
A.重结晶
B.蒸馏
C.活性炭吸附
D.离子交换
12.有机光电材料的性能调控中,常用的表征技术是?
A.X射线衍射
B.核磁共振
C.红外光谱
D.扫描电子显微镜
13.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应条件是?
A.高温高压
B.常温常压
C.微波辐射
D.高能辐射
14.有机光电材料的性能调控中,常用的制备方法是?
A.溶剂蒸发法
B.溅射法
C.热压法
D.气相沉积法
15.有机光电材料的合成工艺中,常用的杂质是?
A.水分
B.油污
C.气体
D.离子
16.有机光电材料的性能调控中,常用的优化方法是?
A.正交试验
B.有限元分析
C.遗传算法
D.模拟退火
17.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应机理是?
A.均相反应
B.非均相反应
C.光化学反应
D.催化反应
18.有机光电材料的性能调控中,常用的添加剂是?
A.稳定剂
B.增塑剂
C.固化剂
D.助剂
19.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应温度是?
A.室温
B.低温
C.高温
D.任意温度
20.有机光电材料的性能调控中,常用的制备工艺是?
A.溶剂浇铸法
B.溅射法
C.热压法
D.气相沉积法
21.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应时间是?
A.短时间
B.中等时间
C.长时间
D.任意时间
22.有机光电材料的性能调控中,常用的测试设备是?
A.光谱仪
B.旋光仪
C.质谱仪
D.热重分析仪
23.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应压力是?
A.常压
B.高压
C.低压
D.任意压力
24.有机光电材料的性能调控中,常用的制备材料是?
A.聚合物
B.小分子
C.金属
D.陶瓷
25.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应溶剂是?
A.水
B.有机溶剂
C.油类
D.气体
26.有机光电材料的性能调控中,常用的制备方法是基于?
A.化学方法
B.物理方法
C.生物方法
D.任意方法
27.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应催化剂是?
A.酸催化剂
B.碱催化剂
C.光催化剂
D.生物催化剂
28.有机光电材料的性能调控中,常用的制备工艺是基于?
A.化学方法
B.物理方法
C.生物方法
D.任意方法
29.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应条件是基于?
A.温度
B.压力
C.溶剂
D.催化剂
30.有机光电材料的性能调控中,常用的制备工艺是基于?
A.化学方法
B.物理方法
C.生物方法
D.任意方法
二、多项选择题(每题2分,共20题)
1.有机光电材料的主要应用领域包括?
A.显示器
B.景象增强器
C.太阳能电池
D.光通信设备
2.有机光电材料的合成工艺中,常用的反应类型包括?
A.加成反应
B.缩聚反应
C.烷基化反应
D.酯化反应
3.有机光电材料的性能调控中,常用的测试方法包括?
A.光谱分析
B.旋光分析
C.质谱分析
D.热重分析
4.有机光电材料的合成工艺中,常用的设备包括?
A.高温炉
B.超声波清洗机
C.真空干燥箱
D.磁力搅拌器
5.有机光电材料的性能调控中,常用的材料包括?
A.聚合物
B.小分子
C.金属
D.陶瓷
6.有机光电材料的合成工艺中,常用的纯化方法包括?
A.重结晶
B.蒸馏
C.活性炭吸附
D.离子交换
7.有机光电材料的性能调控中,常用的表征技术包括?
A.X射线衍射
B.核磁共振
C.红外光谱
D.扫描电子显
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