图形化蓝宝石衬底刻蚀均匀性的多维度解析与优化策略研究.docx

图形化蓝宝石衬底刻蚀均匀性的多维度解析与优化策略研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今半导体光电器件领域，图形化蓝宝石衬底（PatternedSapphireSubstrate，PSS）扮演着举足轻重的角色，尤其在发光二极管（LightEmittingDiode，LED）的制造中，其重要性愈发凸显。LED作为一种高效、节能且环保的新型光源，自诞生以来便迅速在众多领域得到广泛应用，如固态照明、交通信号灯、汽车前向照明、短程光学通信以及生物传感器等。而蓝宝石（Al_2O_3）凭借其出色的化学物理稳定性、高透光率以及相对低廉的成本，成为制备GaN基LED外延衬底的首选材料