CN114665039B 显示基板、其制作方法及三维显示装置 （京东方科技集团股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN114665039B(45)授权公告日2025.07.08

(21)申请号202110133787.9

(22)申请日2021.02.01

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN114665039A

(43)申请公布日2022.06.24

(66)本国优先权数据

PCT/CN2020/1385922020.12.23CN

(73)专利权人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号

(72)发明人张永峰袁广才董学

(51)Int.CI.

H10K50/856(2023.01)H10K71/00(2023.01)H10K59/35(2023.01)H10K59/121(2023.01)

(56)对比文件

CN111769205A,2020.10.13

CN104201190A,2014.12.10CN215008277U,2021.12.03审查员朱军

(74)专利代理机构北京同达信恒知识产权代理

有限公司11291专利代理师刘源

权利要求书2页说明书9页附图13页

(54)发明名称

CN114665039

CN114665039B

(57)摘要

本公开提供了显示基板、其制作方法及三维显示装置，包括具有多个亚像素的衬底基板；每个亚像素内具有至少两个第一电极、以及位于第一电极背离衬底基板一侧的发光功能层；第一电极包括：层叠设置的透明导电部和反射导电部；在至少一个亚像素内，相邻两个第一电极对应设置一个反射结构，反射结构包括第一部分和第二部分，第一部分在衬底基板上的正投影与其中一个第一电极的正投影交叠，第二部分在衬底基板上的正投影与另外一个第一电极的正投影交叠。

111

106

103

108

104

109

110

101

1022a1022b1022

CN114665039B权利要求书1/2页

2

1.一种显示基板，其中，包括：

衬底基板，所述衬底基板包括多个亚像素；每个所述亚像素内具有至少两个第一电极、以及位于所述第一电极背离所述衬底基板一侧的发光功能层；所述第一电极包括：层叠设置的透明导电部和反射导电部；

绝缘层，位于所述第一电极所在层与所述衬底基板之间；

多个反射结构，位于所述绝缘层与所述衬底基板之间；

在至少一个所述亚像素内，相邻两个所述第一电极对应设置一个所述反射结构，所述反射结构包括第一部分和第二部分，所述第一部分在衬底基板上的正投影与其中一个所述第一电极在衬底基板上的正投影交叠，所述第二部分在所述衬底基板上的正投影与另外一个所述第一电极在所述衬底基板上的正投影交叠；其中，所述反射结构在所述衬底基板上的正投影与所述反射导电部在所述衬底基板上的正投影不交叠。

2.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述反射结构还包括第三部分，所述第三部分与所述发光功能层之间在垂直于衬底基板方向上的距离，小于所述第一部分与所述发光功能层之间在垂直于衬底基板方向上的距离，且小于所述第二部分与所述发光功能层之间在垂直于衬底基板方向上的距离。

3.如权利要求2所述的显示基板，其中，所述第三部分位于所述第一部分和所述第二部分之间。

4.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述反射导电部在所述衬底基板上的正投影位于所述透明导电部在所述衬底基板上的正投影内。

5.如权利要求4所述的显示基板，其中，所述透明导电部包括：位于所述反射导电部面向所述衬底基板一侧的第一透明导电部，以及位于所述反射导电部背离所述衬底基板一侧的第二透明导电部；其中，

所述第二透明导电部超出所述反射导电部的部分包括：向所述衬底基板倾斜延伸的坡面，以及与所述坡面接触的边缘平坦部。

6.如权利要求5所述的显示基板，其中，还包括：位于所述多个第一电极所在层背离所述衬底基板一侧的多个透明保护电极；

所述多个透明保护电极与所述多个第一电极对应设置，且所述透明保护电极在所述衬底基板上的正投影，至少覆盖对应所述第一电极中所述边缘平坦部在所述衬底基板上的正

投影。

7.如权利要求6所述的显示基板，其中，在所述亚像素内，所述至少两个第一电极沿第一方向排列并沿第二方向延伸；

所述透明保护电极在所述第一方向上的宽度大于或等于对应所述第一电极在所述第一方向