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2026年光学薄膜技术基础练习题及答案

一、单选题（每题2分，共20题）

注：以下题目基于中国光学薄膜行业发展趋势及国际前沿技术，重点考察基础知识与实际应用。

1.光学薄膜的主要功能不包括以下哪项？

A.增透

B.高反

C.分光

D.电磁屏蔽

2.在光学薄膜制备中，磁控溅射技术的优势在于？

A.成本最低

B.适用于大面积均匀沉积

C.需要高真空环境

D.沉积速率最慢

3.以下哪种材料常用于制备高透增透膜（AR膜）？

A.钽（Ta）

B.氮化硅（Si?N?）

C.氧化钛（TiO?）

D.氟化镁（MgF?）

4.光学薄膜的“色散”现象主要指？

A.薄膜厚度不均

B.薄膜折射率随波长变化

C.薄膜边缘磨损

D.薄膜附着力下降

5.磁控溅射中，射频（RF）溅射与直流（DC）溅射的主要区别是？

A.沉积速率

B.适用材料（RF适用于导电材料，DC适用于绝缘材料）

C.薄膜均匀性

D.设备成本

6.光学薄膜的“膜系设计”中，M表示？

A.薄膜层数

B.膜层厚度

C.膜层材料

D.折射率

7.以下哪种工艺不属于物理气相沉积（PVD）？

A.磁控溅射

B.溅射沉积

C.电子束蒸发

D.化学气相沉积（CVD）

8.光学薄膜的“反射率”计算中，主要考虑？

A.薄膜厚度

B.薄膜折射率

C.入射光波长

D.以上都是

9.在光学镜头上镀增透膜时，通常选择？

A.高折射率材料（如TiO?）

B.低折射率材料（如MgF?）

C.中等折射率材料（如SiO?）

D.金属材料（如Al）

10.光学薄膜的“膜层附着力”测试方法不包括？

A.盐雾测试

B.拉拔测试

C.肉眼观察

D.X射线衍射（XRD）

二、多选题（每题3分，共10题）

注：考察对光学薄膜综合应用的理解，结合中国光学产业（如光伏、显示、安防）实际需求。

1.光学薄膜在光伏行业中的应用包括？

A.减反射膜

B.高反膜

C.AR膜

D.滤光膜

2.影响光学薄膜沉积均匀性的因素有？

A.真空度

B.沉积速率

C.基板温度

D.薄膜材料纯度

3.光学薄膜的“干涉效应”原理基于？

A.光的反射

B.光的透射

C.光的叠加

D.光的衍射

4.以下哪些材料属于光学薄膜常用高折射率材料？

A.TiO?

B.Nb?O?

C.SiO?

D.ZrO?

5.光学薄膜的“膜层龟裂”问题可能由以下原因导致？

A.沉积速率过快

B.薄膜应力过大

C.基板温度过高

D.薄膜与基板热膨胀系数差异大

6.光学薄膜在安防监控领域的应用包括？

A.热成像增强膜

B.8色滤光膜

C.偏振膜

D.防暴膜

7.磁控溅射设备的核心部件包括？

A.阴极靶材

B.磁场发生器

C.真空腔体

D.基板旋转台

8.光学薄膜的“膜层厚度控制”方法包括？

A.脉冲沉积

B.计算机控制沉积速率

C.机械调节靶材距离

D.激光干涉测量

9.光学薄膜的“环境稳定性”测试项目包括？

A.高温测试

B.湿度测试

C.盐雾测试

D.老化测试

10.中国光学薄膜行业的主要技术瓶颈包括？

A.高折射率材料国产化不足

B.大面积均匀沉积难度大

C.成本控制能力弱

D.国际标准对接不足

三、判断题（每题1分，共10题）

注：考察对光学薄膜基本概念的辨析能力。

1.光学薄膜的“增透膜”可以提高所有波长的透射率。（×）

2.磁控溅射比电子束蒸发的成本更低。（√）

3.光学薄膜的“膜层厚度”通常以纳米（nm）为单位。（√）

4.高反膜（HR膜）的反射率可以达到90%以上。（√）

5.光学薄膜的“膜层龟裂”一定是材料质量问题。（×）

6.AR膜（增透膜）通常适用于可见光波段。（√）

7.光学薄膜的沉积速率与基板温度成正比。（×）

8.光学薄膜的“膜层附着力”测试需要使用专用仪器。（√）

9.化学气相沉积（CVD）属于物理气相沉积（PVD）。（×）

10.光学薄膜的“膜层厚度均匀性”对光学性能无影响。（×）

四、简答题（每题5分，共6题）

注：考察对光学薄膜工艺流程及行业应用的深入理解。

1.简述磁控溅射技术的原理及其优势。

2.解释光学薄膜的“干涉效应”如何实现增透或高反功能。

3.列举光学薄膜在显示行业中的三种典型应用，并说明原理。

4.分析光学薄膜“膜层附着力”差的原因及解决方案。

5.比较磁控溅射与电子束蒸发的优缺点。

6.简述光学薄膜“膜层龟裂”的检测方法及预防措施。

五、计算题（每题10分，共2题）

注：考察光学薄膜干涉计算能力，结合实际工程问题。

1.某AR膜设计如下：基板折射率n?=1.5，膜层