NbS₂ₓSe₂₍₁₋ₓ₎材料制备及其Cu基复合材料摩擦学性能：从基础到应用.docxVIP

NbS??Se??????材料制备及其Cu基复合材料摩擦学性能：从基础到应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学领域，随着现代工业的飞速发展，对高性能材料的需求日益增长。新型二维过渡金属硫族化合物（TMDs）NbS??Se??????，凭借其独特的晶体结构和电学、光学、力学等优异性能，在电子器件、能源存储与转换、传感器等诸多领域展现出了巨大的应用潜力。其原子级别的厚度赋予了材料与传统体相材料截然不同的特性，例如高载流子迁移率、强量子限域效应等，为实现高性能、小型化的电子器件提供了可能。

铜基复合材料作为一类重要的金属基复合材料，由于铜本身具有良好的导电性、导热性、塑性和耐腐蚀性，在航空航天、汽车制造、电子电气等众多领域有着广泛应用。通过添加不同的增强相，可以显著提高铜基复合材料的强度、硬度和耐磨性等性能，以满足不同工况下的使用要求。在航空航天领域，铜基复合材料用于制造飞机的发动机部件、电接触材料等，其良好的综合性能有助于提高飞机的性能和安全性；在电子电气领域，铜基复合材料可用于制造集成电路引线框架、触头以及点焊电极等，对电子设备的性能和可靠性起着关键作用。

将NbS??Se??????与铜基复合材料相结合，有望综合二者的优势，开发出具有优异摩擦学性能以及其他独特性能的新型复合材料。通过调控NbS??Se??????的组成和结构，可以实现对复合材料摩擦系数、磨损率等摩擦学性能的有效控制，满足在高速、重载、高温等极端工况下的应用需求。这种新型复合材料的研发，不仅能够拓展材料的性能边界，还将为解决实际工程中的摩擦磨损问题提供新的途径和方法，具有重要的理论意义和实际应用价值。

1.2国内外研究现状

在NbS??Se??????材料制备方面，国内外学者已开展了大量研究工作。目前，常见的制备方法包括化学气相沉积（CVD）法、物理气相沉积（PVD）法、分子束外延（MBE）法和机械剥离法等。CVD法能够在较大面积的衬底上生长高质量的NbS??Se??????薄膜，并且可以通过精确控制反应条件来调控材料的成分和生长层数，但生长过程中可能会引入杂质。PVD法制备的薄膜具有较高的纯度和质量，但设备昂贵，制备成本较高，产量较低。MBE法可以实现原子级别的精确控制，制备出高质量的单晶薄膜，但设备复杂，生长速度慢，产量极低，难以实现大规模生产。机械剥离法虽然能够获得高质量的NbS??Se??????纳米片，但制备过程繁琐，产量极低，难以满足工业化生产的需求。尽管这些方法在制备NbS??Se??????材料方面取得了一定进展，但仍存在一些问题，如制备过程复杂、成本高昂、难以实现大规模制备等，限制了其进一步的应用。

关于铜基复合材料的研究，重点主要集中在增强相的选择、制备工艺的优化以及性能的提升等方面。常用的增强相包括陶瓷颗粒（如Al?O?、SiC等）、金属间化合物（如Cu?Ti、Cu?Zr等）和碳纤维等。不同的增强相能够为铜基复合材料带来不同的性能提升，陶瓷颗粒可以显著提高复合材料的硬度和耐磨性，金属间化合物可以增强复合材料的强度和耐热性，碳纤维则可以提高复合材料的比强度和比模量。在制备工艺方面，粉末冶金法、铸造法、喷射沉积法和原位合成法等被广泛应用。粉末冶金法能够精确控制材料的成分和组织结构，制备出高性能的铜基复合材料，但工艺复杂，成本较高；铸造法工艺简单，成本较低，但复合材料的致密度和性能相对较低；喷射沉积法可以快速制备出高性能的铜基复合材料，但设备昂贵，制备过程难以控制；原位合成法能够在铜基体中直接生成增强相，增强相与基体之间的界面结合良好，但反应过程难以控制，容易产生杂质。通过不断改进制备工艺和优化增强相的选择，铜基复合材料的性能得到了显著提升，但在一些特殊工况下，如高温、高速、重载等条件下，其摩擦学性能仍有待进一步提高。

在NbS??Se??????与铜基复合材料复合后的摩擦学性能研究方面，相关报道相对较少。已有研究表明，将NbS??Se??????作为添加剂加入铜基复合材料中，可以在一定程度上改善复合材料的摩擦学性能，降低摩擦系数和磨损率。然而，目前对于二者复合后的界面结构、增强机制以及摩擦磨损机理等方面的研究还不够深入和系统。界面结构的复杂性会影响增强相在基体中的分散均匀性和界面结合强度，进而对复合材料的力学性能和摩擦学性能产生重要影响。增强机制的不明确使得在优化复合材料性能时缺乏有效的理论指导，难以实现性能的最大化提升。摩擦磨损机理的研究不足则导致无法针对性地采取措施来提高复合材料的耐磨性和使用寿命。

综上所述，当前对于NbS??Se??????材料制备、铜基复合材料以及二者复合后的摩擦学性能研究虽然取得了一定成果，但仍存在许多亟待解决的问题。进一步深入研究NbS??Se??????与铜基