光学和光子学 微透镜阵列 第3部分：光学特性测试方法标准立项修订与发展报告.docxVIP

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《光学和光子学微透镜阵列第3部分：光学特性测试方法》标准立项与发展研究报告

EnglishTitle:DevelopmentResearchReportontheStandardizationProject:“Opticsandphotonics—Microlensarrays—Part3:Testmethodsforopticalproperties”

摘要

本报告旨在系统阐述国家标准《光学和光子学微透镜阵列第3部分：光学特性测试方法》的立项背景、核心内容、技术价值及产业意义。微透镜阵列作为现代光学系统的核心微型化与集成化元件，在5G通信、3D传感、激光加工、计算成像及生物医疗等领域应用广泛，其产业规模与技术创新呈爆发式增长。然而，由于制备工艺多样（如光刻、模压、纳米压印等），不同厂商产品光学性能的测试与评价长期缺乏统一、权威的方法标准，导致产业链上下游在选型、交付与质量管控环节存在障碍，制约了产业的高质量协同发展。本标准的制定，首次系统性地规定了微透镜阵列关键光学特性（包括有效焦距、色差、位置均匀性、耦合效率斯特列尔比及成像质量调制传递函数等）的测量原理、测试设备与标准化程序。报告详细分析了标准的主要技术内容，介绍了主导本标准修订的全国光学和光子学标准化技术委员会及其作用，并展望了该标准对促进我国微纳光学产业技术升级、提升产品国际竞争力、构建完整产业标准体系的重要推动作用。本标准的实施将为微透镜阵列的设计、生产、检测和应用提供统一的技术依据，对保障产品质量、规范市场秩序、推动技术创新具有里程碑意义。

关键词：微透镜阵列；光学特性；测试方法；标准化；有效焦距；调制传递函数；斯特列尔比；全国光学和光子学标准化技术委员会

Keywords:Microlensarray;Opticalproperties;Testmethods;Standardization;Effectivefocallength;Modulationtransferfunction;Strehlratio;NationalTechnicalCommitteeforStandardizationofOpticsandPhotonics

正文

一、立项背景与目的意义

微透镜阵列是一种具有微米级特征尺寸的光学元件，通过阵列化排布的微小透镜单元实现光束匀化、分束、阵列成像、波前调制与光场调控等复杂功能。相较于传统宏观光学元件，其具备体积小、重量轻、易于集成、可批量低成本制造等显著优势，能够实现普通光学元件难以企及的微型化、集成化与并行化处理能力，是推动现代光学系统向小型化、智能化、高性能方向发展的关键使能技术。

其技术原理与应用价值体现在多个维度：例如，利用每个微透镜通道独立聚焦，可实现高精度激光分束；通过子孔径成像拼接，可实现大视场或光场三维成像；基于波前分割与合成，可实现激光光束匀化与整形；利用通道并行工作，可实现高速多通道光通信耦合。当前，微透镜阵列的应用已渗透至众多高端工程与科技前沿领域。在信息通信领域，它是5G/6G高速光模块实现多路并行传输、提升数据通量的核心元件；在视觉与显示领域，它是裸眼3D显示、光场相机、手机3D传感模组实现从2D平面到3D立体感知跨越的核心部件；在高端制造与科研领域，广泛应用于激光医疗设备、工业激光加工匀化系统、航空航天自适应光学系统及精密光学导引头等，其性能直接决定了终端系统的整体效能。

随着市场需求激增，我国已形成了从基础研究、技术开发、生产制造到终端应用的完整微透镜阵列产业链。研究机构如中国科学院下属多个研究所及清华大学、浙江大学等高校持续进行前沿探索；制造企业如舜宇光学、水晶光电、蓝特光学、苏大维格等已实现规模化生产；应用单位涵盖华为、海信、旭创科技等通信与消费电子巨头，以及中国电科、航天科技等军工集团。此外，专业的贸易与代理公司也活跃于市场，产业链生态日趋成熟。

然而，产业蓬勃发展的背后，隐含着标准缺失带来的挑战。市场上微透镜阵列的加工方法繁多，包括光刻刻蚀法、超精密金刚石车削法、热模压法、注塑成型法、纳米压印法以及溶胶-凝胶法等。不同工艺路线生产的产品，其光学特性参数存在差异。目前，行业对于如何科学、统一地检测与评价微透镜阵列的关键光学性能（如有效焦距、色差、阵列均匀性、耦合效率与成像质量等）尚未形成共识。这种标准的缺位导致应用方在选型时缺乏可靠依据，供货方在交付时也面临验收标准不一的困境，增加了交易成本与技术摩擦，不利于产业的健康、有序和高质量发展。

因此，紧急制定《光学和光子学微透镜阵列第3部分：光学特性测试方法》国家标准，旨在填补这一关键领域的标准空白。该标准将为微透镜阵列的光学性能检测提供一套科学、严