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深度解析(2026)《SJT 10311-1992低压化学气相淀积设备通用技术条件》.pptxVIP

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  • 2026-01-23 发布于云南
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深度解析(2026)《SJT 10311-1992低压化学气相淀积设备通用技术条件》.pptx

    《SJ/T10311-1992低压化学气相淀积设备通用技术条件》(2026年)深度解析;

    目录

    一、溯本清源：专家视角深度剖析LPCVD设备为何成为半导体制造的关键基石及其核心标准的历史使命

    （一）从技术演进看LPCVD在微电子产业中的奠基性地位与不可替代性

    （二）SJ/T10311-1992标准的诞生背景：解决早期设备“有”与“优”的矛盾

    （三）标准制定的核心逻辑：如何定义“通用技术条件”以规范行业发展解读：

    （一）从技术演进

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