CN119290894A 针对ai优化的磁体表面缺陷检测设备控制方法及控制器 （北京鸿浩信达技术有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119290894A(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411552092.4

(22)申请日2024.11.01

(71)申请人北京鸿浩信达技术有限公司

地址102200北京市昌平区城北街道南关

路西广武路北8号楼205室

(72)发明人宋浩武思远谢纯诚

(74)专利代理机构北京维正专利代理有限公司

11508

专利代理师邓骏杰

(51)Int.CI.

GO1N21/88(2006.01)

GO6T7/00(2017.01)

GO6N3/067(2006.01)

权利要求书2页说明书12页附图3页

(54)发明名称

针对AI优化的磁体表面缺陷检测设备控制方法及控制器

(57)摘要

CN119290894A一种针对AI优化的磁体表面缺陷检测设备控制方法及控制器，涉及控制调节系统领域，该方法包括：根据输送监测图像，确定输送平台上待测磁体的表面亮度信息；根据表面亮度信息确定检测光源参数，并以检测光源参数调整检测工位的照射光源；在待测磁体到达检测工位时，采集待测磁体的表面图像，并实时计算表面图像的灰度特征值；在灰度特征值与预设灰度目标的数值偏差超过预设偏差阈值时，根据数值偏差对检测光源参数进行微调，确定目标光源参数；控制检测工位的照射光源以目标光源参数进行照射，并再次获取待测磁体的表面图像，作为目标图像；将目标图像输入AI检测模型中，得到缺陷检

CN119290894A

根据输送监测图像，确定输送平台上待测磁体的表面亮度信息

根据输送监测图像，确定输送平台上待测磁体的表面亮度信息

根据表面亮度信息确定检测光源参数，并以检测光源参数调整检测工位的照射光源

在待测磁体到达检测工位时，采集待测磁体的表面图像，并实时计算表面图像的灰度特征值

在灰度特征值与预设灰度目标的数值偏差超过预设偏差阔值时，根据数值偏差对检测光源参数进行微调，确定目标光源参数

控制检测工位的照射光源以目标光源参数进行照射，并再次获取待测磁体的表面图像，作为目标图像

将目标图像输入AI检测模型中，得到缺陷检测结果

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CN119290894A权利要求书1/2页

2

1.一种针对AI优化的磁体表面缺陷检测设备控制方法，其特征在于，应用于自适应光源控制器，所述方法包括：

根据输送监测图像，确定输送平台上待测磁体的表面亮度信息；

根据所述表面亮度信息确定检测光源参数，并以所述检测光源参数调整检测工位的照射光源；

在所述待测磁体到达所述检测工位时，采集所述待测磁体的表面图像，并实时计算所述表面图像的灰度特征值；

在所述灰度特征值与预设灰度目标的数值偏差超过预设偏差阈值时，根据所述数值偏差对所述检测光源参数进行微调，确定目标光源参数；

控制所述检测工位的所述照射光源以所述目标光源参数进行照射，并再次获取所述待测磁体的表面图像，作为目标图像；

将所述目标图像输入AI检测模型中，得到缺陷检测结果。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述灰度特征值与预设灰度目标的数值偏差超过预设偏差阈值时，根据所述数值偏差对所述检测光源参数进行微调，确定目标光源参数的步骤，具体包括：

在所述灰度特征值与预设灰度目标的数值偏差超过预设偏差阈值时，确定所述数值偏差的偏差方向和偏差量；

根据所述偏差方向、所述偏差量和所述检测光源参数的历史调整记录，确定初始调整步长；

以所述初始调整步长调整所述检测工位的所述照射光源，并计算调整后数值偏差的数值修正值；

在所述数值修正值大于预设波动阈值时，调整所述初始调整步长为修正步长；

以所述修正步长执行参数调整，直至所述数值偏差小于所述预设偏差阈值，确定最终的光源参数为目标光源参数。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述根据输送监测图像，确定输送平台上待测磁体的表面亮度信息的步骤之前，所述方法还包括：

采集不同镀层类型的基准磁体的表面基准图像，并确定各个镀层类型对应的灰度特征分布；

根据所述灰度特征分布对各个镀层类型进行聚类，得到多个镀层特征类别；

基于所述镀层特征类别，建立光照参数与灰度特征值之间的映射关系模型；

基于所述映射关系模型，确定各个镀层特征类别对应的最优光照参数和预设灰度目标。

4.根据权利要求3所述的