2026—2027年半导体洁净室环境实时粒子监测与污染控制智能化系统保障高端制造良率获厂务设施自动化升级投资.pptxVIP

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一、二、三、四、五、六、七、八、九、十、一、前瞻趋势深度剖析：智能化粒子监测如何成为未来三年半导体高端制造良率与厂务投资决策的核心驱动力与战略制高点？

（一）从“被动响应”到“主动预测”：解析实时粒子监测系统如何重塑半导体洁净室污染控制范式并直接驱动投资回报率。

随着半导体工艺节点进入埃米时代，污染控制已从成本中心转变为良率核心。传统的周期性抽样监测存在时间盲区，无法捕捉瞬时污染事件。实时粒子监测系统通过每秒数百万个数据点，构建污染事件的时空演化图谱。其价值在于将污染控制从“发生后补救”转向“发生前干预”，通过预测性维护避免整批晶圆报废。投资决策的关键指标已从“设备单价