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- 2026-01-26 发布于云南
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《GB/T41325-2022集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片》宣贯培训;
目录
一、深度解读GB/T41325-2022出台背景:为何在当下这个关键节点精准定义低密度LPDs,它将如何重塑全球高端硅片产业竞争新格局?
二、从抽象术语到具体晶圆:专家视角全景式拆解“低密度晶体原生凹坑(LPDs)”的科学内涵、形成机理与检测界定核心难题
三、权威剖析标准核心技术指标:密度、尺寸、分布与表面态,如何构建四维一体化的LPDs量化评价与分级管控体系?
四、直面产业痛点:深度剖析标准中LPDs检测方法与设备要求的玄机,确保实验室数据与产线监控的高度一致性与可靠性
五、跨越从
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