基于数值模拟的大气压射频微等离子体放电特性解析与研究
一、引言
1.1研究背景与意义
等离子体作为物质的第四态,由大量带电粒子和中性粒子组成,呈现出高度的活性。在众多等离子体研究领域中,大气压射频微等离子体放电凭借其独特的性质和广泛的应用前景,吸引了众多科研人员的目光。
在半导体制造领域,随着芯片制程的不断缩小,对刻蚀、薄膜沉积等工艺的精度和均匀性提出了更高要求。大气压射频微等离子体能够产生高活性的粒子,可精确控制材料表面的原子和分子过程,实现纳米级别的加工精度,从而满足先进芯片制造的需求。如在等离子体刻蚀工艺中,利用射频微等离子体对硅片进行刻蚀,可实现高深宽比的精细结构加工,为高性能芯片
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