原创力文档2018NO.6（上）中国新技术新产品
工业技术
离子注入后氧化层BOE腐蚀工艺优化
商亚峰
（厦门吉顺芯微电子有限公司，福建厦门361000）
摘 要：半导体器件制备过程中，SiO2牺牲氧化层经常作为离子
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